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苏州印象投入使用最新研发高精度光刻制版设备


苏州印象科技自主研发设计的光刻制版设备广泛用于光学防伪及包装及微纳纹理装饰领域,光刻微纳结构频率覆盖亚波长衍射区域,最大面积达到米级范围,光刻制版设备及产品服务于全球50多个国家和地区,是目前防伪包装领域拥有各类光刻机台数量较多企业之一。为提升其行业中的制版核心装备竞争力,2020年再度研发升级高精度双光束制版设备和第三代UV拼版系统,两项年度研发升级计划已全部完成并投入使用。
 

 

小提示:

光刻机(Mask Aligner)有很多种类,通常是用于光刻半导体电子线路掩模,刻蚀半导体集成电路,目前最先进的光刻机其分辨力高达几个纳米量级。本文所述的光刻制版设备不同于半导体用光刻机,光刻制版设备主要用于在光刻胶表面光刻微纳浮雕结构,用以产生衍射色彩、全息及3D或动态显示效果,通常用于印刷包装、防伪和装饰行业,是一种微纳结构转印模具光刻制造设备,线宽精度通常与见光波长相当。
 

目前用于光刻制版设备的种类比较多,常用的光刻机种类有双光束点阵干涉光刻机;投影成像光刻机;单光束(或多光束)直写光刻机。这三大类型的光刻机各有不同的光刻优势和表现能力。苏州印象通过自主设计开发的光刻设备生产出众多独特的光学防伪产品,已广泛用于国家级证件证卡安全识别领域,并为众多国际国内体育赛事提供了入场证件安保服务。

 

 

本次设备升级主要特征如下:

1、光刻平台设计升级为高精度气浮光学平台,采用国际顶级核心配件,清华科研团队搭建,重复定位精度达到200nm。

 

2、运动控制采用集成度更高、接口更丰富的ACS控制卡,和LCM激光控制模块,迎合了当今主流高精度要求的运动控制方式。

 

3、DOVID衍射光变图像是国际流行的光刻制版效果,在证卡票签防伪应用多因为尺寸面积小,因而普遍采用256角度细分即满足要求,但是在包装和装饰应用领域往往需要更大的单元尺寸变化,比如100mm以上直径的连续放射或扩散很容易看到跳变的台阶,本次升级细分至6×256级角度变化,可满足于更大节距光柱的光刻制版,DOVID图形变化更加细腻。

 

4、光刻软件设计控制升级,新增了矢量光刻工作模式,并且能够和非矢量逐行点阵光刻嵌套使用,实现了浅纹矢量线条光刻、转角跟随(光栅随线条弧度旋转,限浅纹),深纹矢量光刻等全新功能。

 

作为一个光学防伪企业,其硬件核心竞争力是光刻制版设备,而核心之核心是光刻设备的研发和升级能力,苏州印象不忘初心,不跟随、不冒进、、沉得下、耐得住,坚持自己特色的自主创新,每取得一点进步,都倾注了开发团队的艰辛。他们奉行“至真、至诚、致远”的价值观,实践着“让视界尽现真美”的企业使命。

 

此次高精度光刻机升级将进一步提高苏州印象在光刻制版核心科技的竞争力,新设备的投入使用,必将带来更具有视觉特色,更具防伪特色的微纳结构色光学产品来服务我们的客户,进一步推进“做微纳光学领域更具价值的服务供应商” 企业愿景。

 

 

关于印象

苏州印象(原上海冠众)始创于2001年,江苏省高新技术企业,长期以来,一直专注于激光全息为核心的微纳结构光学显色技术设计和研究,拥有多项自主研发的微纳结构加工装备和软件核心技术,在可视光学防伪领域、无油墨印刷技术领域、光学微纳纹理制造领域不断开拓奋进,取得了数十项国家发明专利,建立了完整规范的制造体系,给众多的国内外知名品牌用户提供技术及产品服务。

 

其资质及荣誉:

ISO9001质量管理体系认证

ISO27001信息安全管理体系认证

GB/T29490知识产权体系认证系

华为合格供应商认证

国家防伪产品技术认证

国际全息制造家协会(IHMA)会员

江苏省高新技术企业

连续5年获得防伪行业的“蓝盾杯”奖,

“结构色无墨印品通用技术规范”团体标准制定者(已正式颁布)

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